Ziel des Vorhabens war eine Plasmaaktivierung von Pulvern in einem industriell skalierbaren Durchlaufprozess, um insbesondere Benetzbarkeit und Dispergierbarkeit von u.a. PEEK-Pulvern in Elektrolyten zu verbessern und dadurch eine homogenere und stabilere Einbettung in bspw. Chemisch Nickeldispersionsschichten zu ermöglichen. Knackpunkt ist jedoch die fehlende Verfügbarkeit von PEEK-Pulvern im Submikrometerbereich, um eine annähernd gleichwertige Alternative zu den technisch etablierten PTFE-Partikeln anbieten zu können. Damit tangiert das Thema auch unmittelbar das mögliche PFAS-Verbot durch die ECHA. Im Zuge dessen wurde wiederholt die Notwendigkeit eines auf diese Problematik abzielenden FuE-Projekts diskutiert. Jedoch verzichten bereits heute viele Kunden auf PTFE-haltige Beschichtungen, obwohl diese noch nicht verboten sind.
Ein weiterer Themenschwerpunkt lag auf der Herstellung von Phosphor-Standards mit Chemisch Nickel in Zusammenarbeit mit der Helmut Fischer GmbH bzw. aktuelle Analyseergebnisse von ICP-OES und GD-OES im Vergleich zur RFA. Daniel Schlak von Metrohm Deutschland beleuchtete abschließend die Möglichkeiten zur Überwachung von Chemisch-Nickel-Prozessen mittels Raman-Spektroskopie, mit der sich bspw. Badstandzeit bzw. -alterung und somit korrekte Nachdosiermengen sicher ermitteln lassen.
Die nächste Sitzung findet voraussichtlich am 18.März 2027 in Langenfeld bei MacDermid Enthone statt.
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